Aurion Anlagentechnik GmbH

El plasma se utiliza para gestionar muchas tareas en el tratamiento de superficies, es decir, revestimiento, activación de polímeros, grabado de componentes microelectrónicos y limpieza. Para la limpi...

La pulverización significa generalmente expulsar átomos de un objetivo en estado sólido "bombardeándolo" con iones de gas acelerados. Esta técnica se utiliza a menudo para la deposición de películas d...

El plasma se utiliza para gestionar muchas tareas en el tratamiento de superficies, es decir, revestimiento, activación de polímeros, grabado de componentes microelectrónicos y limpieza. Para la limpi...

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El proceso RIE (reactive ion etching) es un proceso de grabado en seco utilizado en la fabricación electrónica y microelectrónica. Sus aplicaciones son, por ejemplo, la limpieza rápida y ultra-alta de...

Redes automáticas de adaptación de impedancias (Serie PRODIK) para el rango de potencia de 300 W a 30 kW, Interruptores para hasta 60 kW, Matrices modulares, Power-Split para operación simultánea de u...

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La pulverización significa generalmente expulsar átomos de un objetivo en estado sólido "bombardeándolo" con iones de gas acelerados. Esta técnica se utiliza a menudo para la deposición de películas d...

AURION ofrece sistemas multicámara personalizados con manipulación de sustratos al vacío. Las configuraciones disponibles incluyen cámaras de cierre, cámaras de transferencia y módulos de proceso p...

Aurion ha desarrollado un proceso para la esterilización y el recubrimiento de barrera de cuerpos huecos (como las botellas de PET) en particular.

Sistemas compactos, huella mínima
- A...

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